光刻機廠商參展：支持開放合作
[2020.11.05] 發表
中美貿易戰進一步揭示中國晶片研發能力不足的問題，其中晶片光刻技術更是目前中國無法突破的樽頸，該領域巨頭、荷蘭光刻機生產企業ASML，即將亮相第三屆上海進博會的高端裝備展區。
製造晶片主要依賴光刻機，光刻機供應市場主要由荷蘭ASML、日本Nikon和Canon三分天下，但最先進的極紫外光(EUV)光刻機技術由ASML壟斷。內地每年進口晶片消耗超過3000億美元外匯，超過進口石油的開支。
新華社報道，ASML今次以「光刻未來，攜手同行」為主題參展，ASML全球副總裁、中國區總裁沈波指出，該公司在中國大陸地區已裝機700台，今年第二、第三季度發往大陸的光刻機台數超過全球總數的20%。沈波表示：「我們參加進博會是為了表達我們的立場，對開放合作、攜手創新的支持。」目前，ASML不用取得美國出口許可證，便可以向中國客戶出售DUV(深紫外光，deep ultraviolet)光刻系統，該系統比EUV相對落後。
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